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关于举办“锗硅BiCMOS技术的微波和太赫兹应 ..
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关于举办“锗硅BiCMOS技术的微波和太赫兹应用研讨会”的通知
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emeidaxia
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2014-07-25
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2016-03-08
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仿真新人
0楼
发表于: 2016-01-22 16:00:44
关于举办“锗硅BiCMOS技术的微波和太赫兹应用研讨会”的通知
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一、为什么参加
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在过去的十几年里, 针对不同应用的THz间隙内的频谱(30GHz到30 THz),比如在毫米和亚毫米波范围内的工业传感器和图像应用,点对点无线通信,极宽带ADCs,400Gb/s光(主链)传输、高分辨率的150 GHz汽车雷达,以及移动通信高线性放大器等的应用兴趣有所增加。此外,这个频段在电路和系统级上也有很多应用领域,如健康(医疗设备,皮肤和遗传筛选),材料科学(安全检查和研究),大规模运输(安检,在座位通讯),工业自动化(传感器),通信(地面,卫星),以及空间探索等。然而,在商业市场的这些高性能的电路和系统主要是由成本,构成因素和能效来驱动。有些在毫米和亚毫米波范围的应用不能由数字CMOS处理技术完成,这是由于寄生效应对高频(HF)的影响,以及CMOS截止频率的局限性。并且,由于商业应用的多样性,这个体量不足以去用先进的数字CMOS工艺和一些被动器件。一个更具成本效益的解决方案是高性能的锗硅(SiGe)模块化集成异质结双极晶体管(HBT)和高频应用的专用无源器件嵌入不是非常高端的CMOS工艺。由此产生的BiCMOS技术已经成为一个主流的制造平台。平台内种类繁多的现有高频产品是由像IBM/GlobalFoundrie这样的半导体厂和研究机构, ST微电子55纳米的SiGeC BiCMOS工艺,以及IHP的全球最快的超过0.5太赫兹(THz)的截止频率SiGe BiCMOS工艺(130nm)所提供。
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课程1将提供一个在SiGe HBT物理原理和现有CMOS平台的工艺集成方案上的详细介绍,同时会展开RF-CMOS, 锗硅BiCMOS及三五族(III/V)技术的流程对比。
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对于电路设计人员来说,一个良好的设计环境,和最先进的CAD工具是很重要的。课程2中展示基于SiGe HBT建模和可靠性方面的细节, 以及支持RF设计的工艺设计包中的特殊射频组件。
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课程3将侧重于RF应用的SiGe BiCMOS技术的先进技术模块,接下来的课程4将会涉及到从10GHz到500GHz的设计实例,有竞争力的RF-CMOS,SiGe设计特性和三五族技术也会在课程4中做相关的比对。
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在课程5中, 三个最新的与产业应用相关的设计实例将会更详细地介绍在SiGe BiCMOS工艺线上产品的开发。
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在课程6中,一家德国设计公司Silicon Radar(从IHP分离)将向我们展示基于SiGe BiCMOS技术在24 GHz和120 GHz的雷达产品。 关于120GHZ的雷达芯片组,也将在现场演示。在演示中,我门将会侧重于产品开发中射频封装概念和射频测试问题。
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除了在微波应用上的重要性,SiGe技术为在不久的将来开发太赫兹产品打开了一扇成功之门。不仅仅是在微波应用方面,这个最新的世界性研究课题也将在我们的课程中提到。特别是在课程7,我们将展示中国研究院采用IHP的SiGe技术很多年下来的研究课题进展。
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最后在课程8将介绍IHP的MPW代工服务,它向未来设计公司通向SiGe BiCMOS工艺展示了一个非常便捷的途径。
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二、谁应该参加
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这次会议适合代工厂工艺工程师,经理以及专注于高频应用(高速传输, 雷达应用,毫米波成像和探测)的设计人员参加。另外, 从SIGE BICMOS 工艺上的不同产品的展示,对想拥有类似产品的设计人员和客户来说是非常有吸引力的。 当然,这个会议也欢迎国内代工企业的高层管理人员一起来参与讨论IHP和本土拥有BICMOS 工艺的晶圆代工厂之间可能的合作。
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三、会议安排
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会议时间:2016年03月17—18日(2天)
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报到注册时间:2016年3月17号,上午9:00-9:30
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会议地点:上海集成电路技术与产业促进中心(1楼报告厅)
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上海市浦东新区张江高科技园区张东路1388号21幢
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四、研讨会具体安排
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第一天:2016年03月17日(星期四)
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课程 1: 时间:09:00am-11:15am
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主题: SiGe HBTs integrated in a CMOS platform - By Dr. A. Mai
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集成在CMOS平台中的锗硅异质结双极型晶体管(SiGe HBT)——A.Mai博士
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-Physics of SiGe HBT
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锗硅异质结双极型晶体管的物理原理
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-Detailed Technology flow of SiGe HBT in a CMOS platform
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CMOS平台中锗硅异质结双极型晶体管的具体工艺流程
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-Process comparison RF-CMOS, SiGe BiCMOS, III/V Technologies
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RF-CMOS, 锗硅BiCMOS及三五族(III/V)技术的流程对比
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课程 2: 时间:11:30am-12:30pm
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主题:Circuit Design platform for SiGe HBTs – By Dr. R.F. Scholz
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锗硅异质结双极型晶体管的电路设计平台——R.F. Scholz博士
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-Modelling and Reliability of SiGe HBTs
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异质结双极型晶体管的建模和可靠性分析
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-Process Design Kit for RF Design
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射频(RF)工艺设计包
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课程 3: 时间:1:30pm-3:00pm
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主题:High end RF Technology Modules on CMOS/BiCMOS a More than Moore strategy- By Dr. M. Kaynak
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超越摩尔定律策略的CMOS/BiCMOS高端射频技术模块——M.Kaynak博士
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-BiCMOS embedded RF-MEMS
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BiCMOS嵌入式射频微机电系统(RF-MEMS)
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-BiCMOS embedded Through Silicon Vias
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BiCMOS嵌入式硅通孔
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-Microfluidics for THz bio-sensing applications
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用于太赫兹生物传感应用的微流控
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-Fan out wafer level packaging (eWLB) for RF applications
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射频应用中扇出晶圆级封装(eWLB)
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课程4 : 时间:3:30pm-5:00pm
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主题:Overview SiGe Circuit Design – By Dr. M. Kaynak
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锗硅电路设计的综述——M.Kaynak博士
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-Application comparison RF-CMOS, SiGe BiCMOS, III/V Technologies
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