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关于FDTD仿真S11参数
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关于FDTD仿真S11参数
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mvpjwill
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0楼
发表于: 2011-12-02 21:35:00
在对添加部分介质的波导问题中,激励源设置为强迫型的, 我是将激励源加在连接边界上,将其设为eyi,并加入总场散射场的修正公式中, 在计算S11时候,入射波取为eyi,反射波取在连接边界后的几个网格,同时计算了入射面、反射面的的电压幅值,结果出现S11不正确太小了,请大家帮忙看看,是不是 ..
'S1u@p,q
'Y /0:)
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simwave
噫!微斯人,吾谁与归?
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1楼
发表于: 2011-12-02 23:24:25
使用总场散射场公式两个条件:
lxyTh'
N1Vj;-
(1)电磁场的横向分布和本地的结构和材料匹配。 只有匹配的波型分布才可以向指定方向传播。如果不匹配, 那么此总场散射场公式自然会产生反射。
o8R_Ojh
(2) 入射面上的媒质是波导或者是统一的材料。远离不连续性。
^%$IdDx
zMv`<m%
所以请检查一下电磁场的横向分布是否为波导的模式场分布。以满足第一个条件。你直接取入射波为Eyi. 如果电磁场的横向分布不和本地的材料匹配,在此面(点)上自然会产生反射。你计算用电压幅度值。那么会取一个或若干个参考点连成一线以计电压。这更要求入射场的匹配了。如果不匹配,也可以提取散射参数,但是执行FDTD两次。
0vqVE]C
Wx:v~/r
另外你的入射面激励源加在连接边界上没有满足第二个条件。要模拟不连续性, 就要把激励源稍微离开一点不连续性。 以避免激励源算法(总场散射场公式)受到此不连续性的影响。
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mvpjwill
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2楼
发表于: 2011-12-02 23:45:43
回 1楼(simwave) 的帖子
感谢哥们的回答! 我的入射波选取在横向是符合TE10模式分布的高斯源, 入射面是在距离介质一段网格的自由空间中(即设置在连接边界上),在做波导的不连续性分析时,波传到介质上是要发生散射,但是入射面远离不连续性 怎么理解? 按照之前做散射问题,入射源都是加在连接边界的,这里的不连续性是影响什么的? 谢谢哥们 感激不尽!
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mvpjwill
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3楼
发表于: 2011-12-02 23:57:52
回 1楼(simwave) 的帖子
如果不匹配, 那么此总场散射场公式自然会产生反射. 这里 我还是有些不解,总场散射场公式如何会产生反射?疑惑中。。。
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lx84
呵呵
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4楼
发表于: 2011-12-05 21:06:55
楼主的问题说的太笼统了,不知道如何下手啊,对于自己编程来说问题会很多的。
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继续!
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simwave
噫!微斯人,吾谁与归?
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5楼
发表于: 2011-12-05 23:23:04
我不太理解你的说法, 以至回答得不准确。抱歉。
$LBgBH&z
(1)
CT\rx>[J.6
"激励源加在连接边界"
RSeav
"入射面是在距离介质一段网格的自由空间中(即设置在连接边界上)"
=g%<xCp
----"连接边界", 是个什么位置和特性?
6d5q<C_3t
(2)"添加部分介质的波导问题"。
x[&)\[t
---波导有很多种啊?你指的哪一种啊?
4<EC50@.
---是指已有的波导中加入(覆盖)其它介质, 还是微波波导开始一部分是自由充填(空气), 然后充填其他介质。
-f'&JwE0=
9qq6P!
(3)"如果不匹配, 那么此总场散射场公式自然会产生反射, 这里我还是有些不解"。
'0Q/oU
---总场散射场公式, 是TF/SF吗?
ZRGe$HaU
---你随便注入一个波型(非波导模式), 然后看看此波是否会向希望的方向传播?还是一开始就向两侧传? 如果波型和波导结构不匹配,那么一定会在入射面处向散射场一侧面有泄露。
}L`Z<h*H
(4) "我的入射波选取在横向是符合TE10模式分布的高斯源"
B&(/,.
---这个TE10模式是你按照解析公式计算出来的。 还是你按照高斯公式计算出来的?
tPk>hzW
(5)如果是微波金属波导, 那么横向边界条件是PEC。 你的纵向边界条件是什么? 也要看一下边界条件是否吸收良好。
cr18`xU
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mvpjwill
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6楼
发表于: 2011-12-05 23:23:06
回 4楼(lx84) 的帖子
感谢哥们关注! 主要想请教一下 如果用连接边界加激励源的方法 怎么来提取入射波与反射波 以此来计算S11?
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mvpjwill
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7楼
发表于: 2011-12-05 23:41:03
回 5楼(simwave) 的帖子
感谢哥们回答!我的帖子表述的不够好,我现在总结一下自己主要的问题。主要做的是仿真一个波导问题,在z传播方向上填充了一段长度的介质,其他空间都是自由空间,在z轴两端设置了PML。x,y轴时PEC。看了文献上关于激励源的设置,所以我在z轴方向, 距离介质10个网格长度设置了连接边界,将传播空间划分成了总场与散射场,然后在散射场区的某一截面上提取电磁场作为反射波,将激励源作为入射波(PS:这里我觉得有问题,入射波不是激励源??),后来做了FFT变换,得到S11,结果偏差很大。
qus%?B{b}
1.连接边界 总场与散射场的连接边界, 我把激励源Eyi 按照总场散射场的公式添加到进Hx的迭代中去了,距离介质10个网格,完全按之前做空间目标散射的问题套路来的,不知是否正确。
&`'@}o>2
2. 波导模型是 在真空波导中,沿传播方向z轴添加一段长度的均匀介质,填满xy截面,其实是模拟介质谐振腔。
'v(b^x<ZS
3.程序已测试可传播
e=!sMWx6
4.激励源的空间分布是TE10 时间上是调制的高斯脉冲 中心频率取在了10GHz
z+c8G
5.纵向是PML 10层
do.XMdit
再次感谢哥们回答 太感谢了
dM -<aq
5.
Qdy/KL1]
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simwave
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8楼
发表于: 2011-12-06 22:23:30
(回七楼)
( n!8>>+1C
根据你的叙述,如果一切都设置合理, 应该可以得到准确的S11。我们可以分别来调试我们怀疑有问题的地方:
rL/H{.@$`
(1)移除介质填充。是一个空气充填的波导。 激励加在中间位置。 观测最初一段时间的时域响应。 如果能观测到在激励面一侧出现向(-Z方向)的反射波。 那么就是波的激励的设置有问题: 或者你用的TFSF程序有问题。或者解析的TE01模式场有问题。
Dd:48sN:Jq
(2)如果上面一切都好。那么把激励面移动到距离终端PML边界较近的位置(十个网格左右)。依然观测最初一段时间的时域响应。看看由PML产生的反射是否很大? 如果有PML的反射,那么反射波经过一贯时间后会越过激励面向反的方向传。
=pb ru=/
(4)查以下两侧的PEC边界条件
v|rBOv
(3)看一FFT结果是否精确。 参考贴子:
http://bbs.rfeda.cn/read.php?tid=66721
(三楼)
LKM;T-
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mvpjwill
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9楼
发表于: 2011-12-07 00:48:06
回 8楼(simwave) 的帖子
今天白天的时候做了一次修改 ,使用了平面波入射,依然采用了连接边界的方法分开散射场和总场,在连接边界前(+z方向)1个网格处提取入射波(Ps:入射波的提取方法 还是不清楚,是运行较短的一段时间吗?分两次计算FDTD 分别提取入射和反射?),反射波的提取就是在散射场区的,最后 反射值相对于入射值过小。 总感觉是 我的入射波的提取不正确, 哥们有好的建议吗? 谢谢!
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